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비아필링의 도금 성장 메카니즘
Plating Growth Mechanizm of Via-Filling

등록 : 2014.11.17 ⋅ 30회 인용

출처 : 일렉트로닉스실장학회, 강연대회논문 24권 2010년, 일어 2 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.11.17
비아필링에 있어서 도금의 성장과 석출과정의 형태등의 메카니즘을 조사
  • 아연 전기도금의 부동태화 내구성은 아연 도금을 위한 시안화물 및 암모니아가 없는 약산성 아연욕과 부동태화 공정을 위한 황색 및 무색 부동태화 용액을 사용하여 연구하...
  • 도금전처리는 도금최초의 공정으로 최고로 중요한 탈지공정으로 탈지세척의 원리 관리방법등의 유의점을 해설
  • 도금막에 발생하는 잔유응력의 측정법 및 응력의 요인에 관하여 연구해설하고, 막응력과 수소공석, 흡장 및 탈리, 막의 균열등에 관하여 설명
  • 크롬산 ㆍ Chromic acid ^ 무수크롬산 (CrO3 / H2CrO4) 크롬산염으로 존재하며, 무수크롬산 CrO3 를 물에 녹이면 반응하여 CrO3 + H2O → H2CrO4 크롬산이 된다. 크롬 도금액...
  • 미량 마그네슘을 함유한 구리-철 Cu-Fe 합금에 관하여, 은 Ag 도금 돌기물의 발생현황을 조사한 결과