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검색글 Shin WATANABE 3건
전기구리도금의 전류파형제어에 의한 비아필링
Via-filling by copper electroplating using current waveform control

등록 2008.09.02 ⋅ 44회 인용

출처 표면기술, 54권 8호 2003년, 일본어 3 쪽

분류 연구

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저자

기타

電気銅めっきの電流波形制御によるビアフィリング]

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.10.15
구리전기도금을 이용한 종래의 브라인트비아 보다도 작은, 고 아스펙 데파구조가 아닌 스트레이트홀의 브라인드비아의 구리도금에 관한 검토
  • 구리도금욕중의 첨가제를 억제함에 따라 써브미크론 오다의 ULSI 배선형성의 가능성에 관하여 검토
  • 알칼리 구리도금욕 ^ Alkaline Copper Plating 알칼리 구리도금은 [시안화구리도금|시안화 구리욕]ㆍ[피로인산구리|피로인산 구리욕] 이 있으며, 시안욕은 시안농도에 따라 ...
  • 정확한 스타일의 색상일치를 유지하면서 차이점의 원인을 설명 하였다. 또한 유색 금전착의 개발, 새로운 색상이 예상되는지 여부, 금 Au 합금의 색상이론을 사용하여 새로...
  • 다이나믹 도금셀 (HETC) ^ Hydrodynamic Electroplating Test Cell HETE 는 1994 년 경 "Shi-Chern Yen" 과 "I- Mon Lu" 가 고안한 두개의 차단 전극이 서로 90° 를 가진 회...
  • NO(-iii) 이온의 환원으로, 전극표면의 pH 상승을 이용하여 스테인리스강 상에 Al(iii)-Y(iii) 혼합 수산화물을 겔형태의 피막을 형성하는 방법에 관한 검토