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TSV 필링 공정에서 평활제가 구리 비아필링에 미치는 영향 연구
The Effects of Levelers on Electrodeposition of Copper in TSV Filling

등록 : 2014.02.23 ⋅ 10회 인용

출처 : 마이크로전자 및 패키징학회지, 19권 2호 2012년, 한글 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.15
첨가제의 사용량을 줄이기 위하여 다양한 첨가제 중에 평활제만을 사용하여 비아필링 실험을 진행하였으며, 첨가제의 양에 따른 표면 형상 및 비아필링의 형상을 관찰
  • 본 발명은 적어도 하나의 욕 용해성 주석염, 적어도 하나의 욕 용해성 아연염 및 우레일렌에서 선택된 4차 암모늄 중합체를 포함하는 주석-아연 합금의 전착용 수성도금욕에...
  • 여러 종류의 전이금속 화합물을 크롬 대체 원소로서 이용하여 만든 화성피막의, 내식성 및 피막구조에 관하여 구체적으로 검토한 보고서
  • 앞서 개발된 센서와 기본적인 원리는 같지만 구조물의 재료와 형태, 공정방법을 바꿈으로써 감도와 성형성을 높일수 있는 센서를 개발할 목적
  • 각종금속을 함유한 산용액에서 이온교환수지로 유리산과 금속염을 분리하는 방법의 소개와, 유리산의 회수에는 물이 사용되는 경제적인 크린 방법을 소개
  • 전자기 차폐 ㆍ EMI Shield 전자기 차폐는 공간의 특정 부분을 도체 혹은 강자성체로 둘러싸서 내부가 외부 전자기장으로부터 영향을 받지 않도록 하거나, 반대로 내부에서 ...