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전기구리도금에 의한 비아필링성에 있어서 욕조성의 검토
Influence of Bath Composition to Via-Filling by Copper Electroplating

등록 2009.07.24 ⋅ 44회 인용

출처 일렉트로닉스실장학회지, 3권 4호 2000년, 일어 6 쪽

분류 연구

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기타

電気銅めっきによるビアフィリング性に及ぼす浴組成の検討

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.04.07
직류전류법을 이용한 전기구리도금의 욕조성과 첨가제를 억제함에 따른 비아필링의 가능성에 관한 검토
  • 전기도금 후처리공정인 후크롬 처리작업시 사용되는 후크롬용액과 그 보급재 용액에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 후크롬 농도의 안정화로 부착량의 균일화를 도모할 수 ...
  • IGE
    IGE · lsopropylglycidyl ether C6H12O2 = 116.16 g/㏖ cas. 4016-14-2 유기 화합물용 안정제 에테르 및 에스테르 합성용 중간체 참고 wiki Glycidyl Isopropyl Ether
  • 전도도 (傳導度) · conductivity 전기전도도·전도율·도전율 또는 간단히 전도도라고 한다. 전기 저항의 역수를 표현 한다. 전도도 L = 1/ρ = l/R S 대표 금속의 전기전도도 ...
  • Via-Filling시 bottom-up 충전에 영향을 주는 각 유기물 첨가제들의 특성 및 농도변화에 따른 특성변화를 관찰하였으며, 누적 전류량에 따른 유기물 첨가제들의 특성변화를 ...
  • 양극 관리에서는 양극 면적, 양극 전류 밀도와 함께 욕 조성에 의해 양극을 분극시키고, 양극 용해를 억제하는 것이 아연 도금의 저농도화에는 반드시 필요하고, 저 온도 관...